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EDI超純水設備

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  • 電去離子(EDI)系統主要是在直流電場的作用下,通過隔板的水中電介質離子發生定向移動,利用交換膜對離子的選擇透過作用來對水質進行提純的一種科學的水處理技術。
    edi超純水設備

    電去離子(EDI)系統主要是在直流電場的作用下,通過隔板的水中電介質離子發生定向移動,利用交換膜對離子的選擇透過作用來對水質進行提純的一種科學的水處理技術。...

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  • 電去離子系統的作用是精除鹽。在使用RO滲透水脫除97~99%離子的前提下,EDI可直接將反滲透產水提純到純水、高純水、超純水的標準,而無需使用離子交換混床,其產水的電阻率最高可達18MΩ·cm。
    工業用edi去離子水設備

    電去離子系統的作用是精除鹽。在使用RO滲透水脫除97~99%離子的前提下,EDI可直接將反滲透產水提純到純水、高純水、超純水的標準,而無需使用離子交換混床,其產水的電阻率最高可達18MΩ·cm。...

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  • 通過獨特的設計,使進水通過填充有可再生樹脂的淡水室,使水中雜質離子被樹脂吸附,從而得到純化水。而樹脂在直流電場裂解水的作用下得到無污染的再生,因此保持活性。而釋放的雜質離子將在直流電場的作用下,定向移動,通過離子選擇膜進入濃水室被濃水帶走。
    200噸二級反滲透+EDI設備

    通過獨特的設計,使進水通過填充有可再生樹脂的淡水室,使水中雜質離子被樹脂吸附,從而得到純化水。而樹脂在直流電場裂解水的作用下得到無污染的再生,因此保持活性。而釋放的雜質離子將在直流電場的作用下,定向移動,通過離子選擇膜進入濃水室被濃水帶走。...

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  • 拋光混床的樹脂是不能再生重復使用的。拋光混床又稱一次性混床一般情況用在工藝末端,用來更進一步提高產水水質。為獲得電子、醫藥或其他行業用電導率0.055μS/cm(電阻率18.2 MΩ·cm)的理論純水,在普通混床或EDI凈水設備后,通常還裝設拋光混床進行最終的精處理。
    80噸二級RO+EDI+拋光

    拋光混床的樹脂是不能再生重復使用的。拋光混床又稱一次性混床一般情況用在工藝末端,用來更進一步提高產水水質。為獲得電子、醫藥或其他行業用電導率0.055μS/cm(電阻率18.2 MΩ·cm)的理論純水,在普通混床或EDI凈水設備后,通常還裝設拋光混床進行最終的精處理。...

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  • 通過獨特的設計,使進水通過填充有可再生樹脂的淡水室,使水中雜質離子被樹脂吸附,從而得到純化水。而樹脂在直流電場裂解水的作用下得到無污染的再生,因此保持活性。而釋放的雜質離子將在直流電場的作用下,定向移動,通過離子選擇膜進入濃水室被濃水帶走。
    50噸EDI裝置

    通過獨特的設計,使進水通過填充有可再生樹脂的淡水室,使水中雜質離子被樹脂吸附,從而得到純化水。而樹脂在直流電場裂解水的作用下得到無污染的再生,因此保持活性。而釋放的雜質離子將在直流電場的作用下,定向移動,通過離子選擇膜進入濃水室被濃水帶走。...

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  • 我司生產的超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。
    新材料、電池超純水設備

    我司生產的超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。...

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  • 電子級超純水設備出水水質符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。<br />
    光電、液晶屏超純水設備

    電子級超純水設備出水水質符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。
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  • 半導體超純水設備是應用于半導體生產零件清洗的超純水設備,需要符合特定的用水水質標準,半導體超純水設備出水水質要符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業電子級水質技術標準18MΩ.cm以上
    半導體材料超純水系統

    半導體超純水設備是應用于半導體生產零件清洗的超純水設備,需要符合特定的用水水質標準,半導體超純水設備出水水質要符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業電子級水質技術標準18MΩ.cm以上...

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  • EDI是一種將離子交換技術(電滲析)、離子交換膜技術和離子電遷移技術相結合的純水制造技術。它巧妙的將電滲析和離子交換技術相結合,利用兩端電極高壓使水中帶電離子移動,并配合離子交換樹脂及選擇性樹脂膜以加速離子移動去除,從而達到水純化的目的。
    EDI除鹽水設備

    EDI是一種將離子交換技術(電滲析)、離子交換膜技術和離子電遷移技術相結合的純水制造技術。它巧妙的將電滲析和離子交換技術相結合,利用兩端電極高壓使水中帶電離子移動,并配合離子交換樹脂及選擇性樹脂膜以加速離子移動去除,從而達到水純化的目的。...

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